3)第168章 方向_去未来搞点黑科技很正常吧?
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  们完全可以等他们方案成熟之后直接采购他们的芯片。

  高通那边也不得罪。

  只是现在世界变化太快,我也拿不准到底要不要再给芯片研发加大投入,所以我觉得还是听听元光的意见,听听神的意见总不会错。

  如果他建议我们自研,那也算是有一颗定心丸。”林斌最后还调侃了一下。

  晚上大概七点半晚饭之后,陈元光接到了来自雷君的电话,他看到来电显示笑了,比他预料的还来的晚了点。

  “师兄,有什么事吗?”

  雷君苦恼的声音从电话那头传来:“师弟,你这次可是给我们出了一个难题。

  这道题太难了,我们有点解不开,所以我特地来请教一下你。”

  陈元光也不拐弯抹角:“拓扑半金属吗?”

  雷君:“没错,华为发布会看的我是心惊胆战,感觉我们很快就要被华为干掉了。

  华为本身在一些方面就要强于我们,之前他们的短板在芯片上,受限于阿美利肯的限制措施,导致他们的芯片只能和两年前的高通持平。

  芯片实现突破之后,我们和华为的竞争会变得非常吃力,1nm的手机soc什么概念?领先我们五到十年的时间,这太夸张了。

  我昨天一晚上都没睡着,实在是压力太大。

  我想问问它替代硅的速度有多快,以及在成本上表现如何?”

  这是直指核心的问题,如果拓扑半金属的成本比硅还要更低的话,那硅基芯片哪怕在中低端也将彻底失去市场。

  陈元光听完后思绪回到了三个月以前,那时候他们刚刚为找到合适的光源系统设计逻辑而高兴,面对量产依然有很多问题需要克服。

  他记得很清楚,那一天他前脚和光甲航天的空间站设计团队们开完会,后脚梁孟松来找他,说有一个全新的思路:

  “元光,我们为什么一定要把硅基芯片的工艺应用在拓扑半金属上?”

  陈元光听完后疑惑道:“你的意思是?”

  梁孟松激动道:“随着FET的工艺逐渐接近极限后,产业界进行了大量探索,试图找到突破工艺极限的办法。

  其中就包括新材料,用拓扑半金属替代硅成为芯片原材料只是众多办法中的一种,还有一种被认为有可能成为下一代芯片基础原材料的物质是2D材料。

  和拓扑半金属一样,它也不能直接用硅基芯片的工艺,而和拓扑半金属完全停留在实验室不同,工业界在二维材料的物理特性上做出了大量探索。

  它已经跨过实验室阶段开始做晶圆级探索了。

  其中目前二维材料最主流的方法之一,CVD法就很适合我们用在拓扑半金属的二次处理上。

  它本来就是为了解决二维材料敏感性,解决二维材料的良品率和稳定性所研究出来的方法。

  通过取向控制来选择与晶格相匹配的合适衬底,进而生长出结晶度高、晶格结构完整、晶格取向可控的薄膜。

  为了适应拓扑半金属,我们可以采用金属-化合物作为前驱体,在这个基材上实现均匀供应,通过薄膜和衬底之间的组合来调节最终得到的合适基底。”

  陈元光听完后意识到这是一种解决方案,之前大家推进缓慢很重要的原因是没有方向。

  未来时空里的合成路线,不适用于现在,像什么使用固态原子自旋操作平台构建拓扑半金属芯片,并实现芯片的量子传感。

  在21世纪上半叶到哪里去找固态原子自选操作平台。

  哪怕这在四百年以后已经是落后技术,芯片生产对于绝大部分人类来说已经发展成不折不扣的黑箱,几乎完全依赖AI的自我运作。

  这落后技术对21世纪初来说也是遥不可及。

  梁孟松敏锐洞察到当前前沿技术中可以应用的点后,他们围绕拓扑半金属的推进速度可以用一日千里来形容。

  有了方向,具体的技术难点都很容易在未来时空找到理论基础。

  他们用现有工艺改造后制造出第一块拓扑半金属芯片后,他和梁孟松都知道世界将就此改变。

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