6平方厘米的面积上去放晶体管，我们虽说单个晶体管的体积更大，但是我们能放晶体管的面积也更大了。
也就是说我们用28制程制作出来的芯片，晶体管数量和5nm制程制作出来的芯片数据一样，因为我们的基底更大了。
原本华国的思路是去追赶国外的技术，别人在3nm，我们现在连28nm都还没搞定，差距非常大，但是因为3nm可以说是工艺极限了。
因为硅基材料的晶格结构和物理特性限制了芯片制程的进一步缩小，硅基材料在3nm几乎已经达到了极限，现在3nm都难以保证良品率。
在这个制程上，三星已经掉队，唯一还能维持良品率的是台积电。
如果继续沿着光刻机去追赶，需要整个上下游供应商的共同进步，这太难了。
而我们直接上新材料，可以在现有技术上，实现同等的算力。
甚至用国内ASML的7nm光刻机改造，用拓扑半金属制造硅片的话，芯片的算力能比3nm表现更好，无限逼近1nm。
这就意味着他们的策略彻底失败，我们的芯片算力比他们还更先进，那是谁卡谁脖子呢？
而你把3nm工艺给我们用，我们一起突破现在的桎梏，把芯片给它拉满，或者大家一起卡在1nm。
这是一件合则两利的事情。”
陈元光接着说：“之前在常温超导体的制备过程中无疑间发现了这种全新的拓扑半金属，只是我一直没有想明白，怎么去设计偏振光去做刻制芯片的那一步。
在绵阳的这段时间里，我终于想清楚了这个问题。”
自始至终陈元光就从来没有想过要通过光刻机来解决芯片问题，因为即便解决了光刻机，只要你还要靠这个技术体系，别人总是能找到技术关键点，让伱难受。
一艘船上全是漏洞，你补得了一个补不了所有。
即便真的能补所有，需要花的精力也远超想象。
还不如直接给它换个发动机，原本靠人来划船，现在给它加一个发动机，只要速度够快，水就漏不进来。
拓扑半金属也是陈元光精挑细选的技术，适合当下环境，又不用费太大劲对现有技术体系改造。
林甲听完后问：“量子计算机不是也能解决这个问题吗？
何必多次一举呢。”
陈元光接着说：“量子计算机现在还在研究过程中，等它真正发挥作用少说也得三到五年，而且量子计算机很难出口，国外也不会采取我们的技术架构，充其量买回去进行逆向破解。
他们不会帮你做量子计算机的软件适配，它更多的还是作为企业使用的工具。
或者作为云计算的关键基础设施。
而拓扑半金属最多一年，甚至更短就能造出性能不亚于国外的芯片来，这对他们的冲击更大。
更能实现我们的目的，逼迫他们
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